遮光比是當(dāng)使用納米激光粒度儀測試樣品時配置的樣品懸浮液的濃度。正確選擇陰影比率是粒度測量過程中的重要步驟。遮光率是否合適或樣品的濃度是否合適會嚴重影響粒度測量結(jié)果的性和代表性。
 

　　納米激光粒度儀的測量原理要求樣品的濃度應(yīng)基于樣品中顆粒之間不發(fā)生二次散射的原理。從理論上講，懸浮液或空氣中顆粒之間的距離應(yīng)為粒徑的3倍，但是，這一要求很難掌握，因此在實際粒度測試中，調(diào)整陰影比值以確保存在粒子之間沒有二次散射。陰影比例不應(yīng)太大（大于50％）或太小（小于5％）。遮光率過大時，粒子濃度過高，容易引起二次散射，測定誤差變大。如果遮蔽率太低，則樣品中的顆粒濃度太低，顆粒數(shù)太少，測試結(jié)果的代表性非常差，甚至可能導(dǎo)致測試結(jié)果無效。因此，在測試過程中，應(yīng)重復(fù)選擇遮光比率以獲得正確的測量結(jié)果。

　　一般而言，對于較粗糙的樣品，遮光率可以更高，例如20?30％，正常情況下可以達到10?25％。對于超細樣品，可以適當(dāng)降低樣品的遮光率，但通常不超過40％。使用納米激光粒度儀進行粒度測試時，由不同人員操作有時會導(dǎo)致測試結(jié)果不同。如何確保粒度測試在可重復(fù)性方面，應(yīng)注意以下要求：

　　1.儀器系統(tǒng)必須穩(wěn)定可靠，包括信號傳輸系統(tǒng)，數(shù)據(jù)處理，抗干擾等；

　　2.系統(tǒng)配備循環(huán)分散混合裝置；

　　3.儀器供應(yīng)商應(yīng)具備提供技術(shù)指導(dǎo)的能力；

　　4.儀器具有規(guī)范的操作程序功能；

　　5.注意儀器和操作以外的因素，包括采樣因素和環(huán)境因素。